晶瑞电材：公司近期已购得 KrF 光刻机一台，可用于光刻胶曝光测试

12 月 8 日，有投资者向晶瑞电材提问，晶瑞电材是否拥有 KrF 光刻机？ 是否具备批量生产 KrF 光刻胶的条件？

晶瑞电材表示，公司近期已购得 KrF 光刻机一台，可用于 KrF 光刻胶的曝光测试，同时公司 KrF 光刻胶量产化生产线正在积极建设中。

关于公司的主导产品，晶瑞电材表示，公司的主导产品包括光刻胶及配套材料、超净高纯试剂、锂电池材料和基础化工材料等，广泛应用于半导体、新能源、基础化工等行业，主要应用到下游电子产品生产过程的清洗、光刻、显影、蚀刻、去膜、浆料制备等工艺环节。公司专业从事微电子化学品的产品研发、生产和销售。公司经过多年研发和积累，超净高纯试剂主要产品达到国际最高纯度等级（G5），打破了国外技术垄断，制定了多项行业标准；被中国电子材料行业协会评为“中国电子化学品十强企业”，光刻胶产品规模化生产近 30 年，达到国际中高级水准，是国内最早规模量产光刻胶的少数几家企业之一。

根据官方资料，晶瑞电材子公司苏州瑞红于 1993 年开始光刻胶生产，是国内最早规模量产光刻胶的少数几家企业之一，目前能够能够提供紫外负型光刻胶和宽谱正胶及部分 g 线、i 线正胶等高端产品，拥有达到国际先进水平的光刻胶生产线，实行符合现代微电子化学品要求的净化管理，配备了国内一流的光刻胶检测评价装置。承担并完成了国家 02 重大专项“i 线光刻胶产品开发及产业化”项目，i 线光刻胶已向国内头部的知名大尺寸半导体厂商供货，KrF (248nm 深紫外) 光刻胶完成中试，产品分辨率达到了 0.25~0.13μm 的技术要求，建成了中试示范线。公司于 2020 年下半年购买 ASML XT 1900 Gi 型光刻机设备，ArF 高端光刻胶研发工作正式启动，旨在研发满足 90-28nm 芯片制程的 ArF (193nm) 光刻胶。与半导体行业客户包括中芯国际、华虹宏力、上海积塔、长江存储、士兰微、合肥长鑫、扬杰科技等建立了长期合作伙伴关系。

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